Lithography Machine Mask Aligner Photo-leptací stroj
Představení produktu
Expoziční světelný zdroj využívá importovaný modul pro tvarování UV LED a světelného zdroje s malým teplem a dobrou stabilitou světelného zdroje.
Inverzní osvětlovací struktura má dobrý efekt rozptylu tepla a blízký efekt světelného zdroje a výměna a údržba rtuťové lampy jsou jednoduché a pohodlné.Vybavený binokulárním mikroskopem s vysokým zvětšením a 21palcovým širokoúhlým LCD displejem, lze jej vizuálně zarovnat pomocí
okulár nebo CCD + displej s vysokou přesností vyrovnání, intuitivním procesem a pohodlným ovládáním.
Funkce
S funkcí zpracování fragmentů
Vyrovnávací kontaktní tlak zajišťuje opakovatelnost prostřednictvím senzoru
Mezeru zarovnání a mezeru expozice lze nastavit digitálně
Použití vestavěného počítače + ovládání dotykové obrazovky, jednoduché a pohodlné, krásné a velkorysé
Vytahovací typ nahoru a dolů, jednoduché a pohodlné
Podporujte vystavení vakuovému kontaktu, vystavení tvrdému kontaktu, vystavení tlakovému kontaktu a vystavení blízkosti
S funkcí rozhraní nano otisku
Jednovrstvá expozice s jednou klávesou, vysoký stupeň automatizace
Tento stroj má dobrou spolehlivost a pohodlnou demonstraci, zvláště vhodný pro výuku, vědecký výzkum a továrny na vysokých školách a univerzitách
Více informací
Specifikace
1. Expoziční plocha: 110 mm × 110 mm；
2. ★ Vlnová délka expozice: 365nm;
3. Rozlišení: ≤ 1 m;
4. Přesnost zaměření: 0,8m;
5. Rozsah pohybu snímacího stolu seřizovacího systému musí splňovat alespoň: Y: 10 mm;
6. Levý a pravý světelný tubus ustavovacího systému se může pohybovat samostatně ve směrech X, ya Z, směr X: ± 5 mm, směr Y: ± 5 mm a směr Z: ± 5 mm;
7. Velikost masky: 2,5 palce, 3 palce, 4 palce, 5 palců;
8. Velikost vzorku: fragment, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ Vhodné pro tloušťku vzorku: 0,5-6 mm a může podporovat maximálně 20 mm vzorky (přizpůsobené);
10. Režim expozice: časování (režim odpočítávání);
11. Nerovnoměrnost osvětlení: ＜ 2,5 %;
12. Zaměřovací mikroskop CCD s dvojitým polem: čočka se zoomem (1-5krát) + čočka objektivu mikroskopu;
13. Pohybový zdvih masky vzhledem ke vzorku musí splňovat alespoň: X: 5 mm;Y: 5 mm;: 6º；
14. ★ Hustota expoziční energie: > 30 MW / cm2,
15. ★ Poloha zarovnání a pozice expozice fungují ve dvou stanicích a servomotor dvou stanic se automaticky přepne;
16. Vyrovnávací kontaktní tlak zajišťuje opakovatelnost prostřednictvím senzoru;
17. ★ Mezeru zarovnání a mezeru expozice lze nastavit digitálně;
18. ★ Má nano imprint rozhraní a proximity rozhraní;
19. ★ Ovládání dotykové obrazovky;
20. Celkový rozměr: Asi 1400 mm (délka) 900 mm (šířka) 1500 mm (výška).
